Àû¿ëºÐ¾ß (Special Application)

HTHA (High Temperature Hydrogen Attack)
HTHA´Â ¼®À¯ ¹× °¡½º »ê¾÷¿¡¼­ ÀϹÝÀûÀ¸·Î ¹ß»ýÇÏ´Â ¿­È­ ¸ÞÄ¿´ÏÁòÀ¸·Î ¼ö¼Ò ¶Ç´Â ¼ö¼Ò¿ÍÀÇ »óÈ£ÀÛ¿ë¿¡ ÀÇÇÏ¿© Àç·á°¡ Æı«µÇ´Â Çö»óÀ¸·Î¼­, Àç·á ³»ºÎ¿¡¼­ ¼ö¼Ò(H2)°¡ Çظ® ¹× ¿ëÇØ µÈ ÈÄ Åº¼Ò(C)¿Í ¹ÝÀÀÇÏ¿© ¸Þź(CH4)À» Çü¼ºÇÏ¿© ÀÔÀÚ °æ°è ¹× ¶Ç´Â °è¸é¿¡ ÃàÀûµÇ°í ÀÌ·Î ÀÎÇØ HTHAÀÇ ÀüÇüÀûÀÎ H2S ±Õ¿­ÀÌ ¹ß»ý. H2S ±Õ¿­Àº ¼ö¼ÒħÅõ ±Õ¿­(HIC), Ȳȭ¹° ÀÀ·Â±Õ¿­(SSC) ¹× Blistering µîÀÇ ¿©·¯°¡Áö À¯ÇüÀÇ ¼Õ»ó ¸ÞÄ¿´ÏÁòÀ» Æ÷ÇÔ
Blistering Àº ¼ö¼Ò(H2) ħÅõ¿¡ ÀÇÇØ ¹ß»ýµÇ´Â Ç¥¸é ÇÏ °øµ¿À¸·Î¼­, ½Ã°£ÀÌ Áö³²¿¡ µû¶ó ÀÌ·¯ÇÑ °øµ¿Àº Ç¥¸éÇÏ "Blister" ·Î ³ªÅ¸³ª°í ¼ö¼Ò °¡½ºÀÇ ÃàÀûÀº °á±¹ ÀÌ·¯ÇÑ BlisterÀÇ ¿¬°áÀ» ÅëÇØ È®ÀåµÇ¸ç ÀÌ·¯ÇÑ BlisterÀÇ ¿¬°áÀº ´Ü°èÀû ±Õ¿­·Î¼­ ºÎÇ°ÀÇ ¼ö¸í¿¡ ¸Å¿ì Ä¡¸íÀûÀÎ À§Çè ¿äÀÎ.


HTHA¸¦ °ËÃâÇϱâ À§Çؼ­´Â ÃÊÀ½Æĸ¦ ÀÌ¿ëÇÑ °Ë»ç°¡ ÇʼöÀûÀÌ¸ç ´ÙÀ½ÀÇ °Ë»ç±â¹ýµéÀ» Àû¿ë

¡Ü AUBT (Advanced Ultrasonic Backscattering Technique)
¡Ü TFM (Total Focusing Method)
¡Ü TOFD (Time Of Flight Diffraction : Ultra Low Angle)